利用IC Compiler中Zroute技术在45nm改善布线QoR、DFM和运行时间
SNUG San Jose 2009
2009
22 页
利用IC Compiler中Zroute技术在45nm改善布线QoR、DFM和运行时间
作者: Vladimir Yutsis, Sunil Mehta (AMD); Linda Davidson, Frank C. Gover (Synopsys)
摘要
随着微处理器行业进入45nm及更小工艺节点,可制造性和良率成为主要关注点。在先进工艺节点,补偿光刻问题的规则数量和复杂性显著增加,对当代物理综合工具(包括布线器)提出了新挑战。AMD与Synopsys在beta协议下启动了一个联合项目,验证Zroute布线和DFM 可制造性设计在45nm及以下节点的结果。本文提供了45nm节点的详细报告。我们将讨论Zroute与当前IC Compiler经典布线器在以下方面的比较:改进的DFM评分、改进的结果质量(QoR 结果质量)(布线/电气)、可印刷性质量和运行时间效率。我们展示了来自AMD自动化物理综合和定制流程中多个模块的结果。
在Zroute的早期试验中,AMD体验到了相比IC Compiler当前实现显著改善的指标,包括单切通孔减少43%、窄缝减少70%、缺口减少30%,从而实现更好的可制造性。在实现这些改进的同时仍满足时序并减少运行时间,这是布线技术的一项令人印象深刻的进步。
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